机译:衬底温度和沉积速率对热等离子体沉积铌酸钽-钽酸薄膜初始生长的影响
CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION; PULSED-LASER DEPOSITION; LINB1-XTAXO3 FILMS; LINB0.5TA0.5O3 FILMS; STRUCTURAL EVOLUTION; LINBO3 FILMS; SPRAY CVD; SAPPHIRE; NUCLEATION; FABRICATION;
机译:衬底温度和沉积速率对热等离子体沉积铌酸钽-钽酸薄膜初始生长的影响
机译:扩展热等离子体沉积的ZnO膜:衬底温度对膜性能的影响。电影成长研究
机译:基板温度对等离子沉积甲基丙烯酸甲酯薄膜热性能和沉积动力学的影响
机译:基质温度对气-射流电子束等离子体化学气相沉积法沉积A-SI:H薄膜的光学性质和沉积速率的影响
机译:通过等离子增强化学气相沉积在聚合物基材上沉积无机薄膜。
机译:热蒸发法沉积纳米结构化CdS薄膜:衬底温度的影响
机译:衬底温度对射频等离子体沉积氢化非晶硅薄膜沉积速率的影响