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【摘要】为了缩短周转时间并减少在任意布局上进行SRAF插入和优化的工作量，开发了一种基于模型的新SRAF插入和优化流程。它基于基于像素的蒙版优化技术，以找到导致最佳图像对比度的最佳蒙版形状。对比度优化的蒙版被分解为主要功能和辅助功能。然后，经过分解的辅助功能将通过简化过程进行操作，以减少镜头计数，从而提高掩模写入吞吐量。最终应用基于模型的光学邻近校正（OPC），以实现当前技术所需的图案保真度。在此流程中，主要特征和辅助特征可以同时进行优化，从而实现SRAF优化和光学邻近校正（OPC）的效果。由于掩模优化的目标是图像保真度，并且没有光通过辅助功能部件（在暗视场情况下），因此即使在高剂量下也确保了辅助功能部件不打印。在65nm /接触层上的结果表明，与基于规则的方法相比，该方法大大减少了SRAF布局优化所需的总时间和精力，并且与基于规则的方法相比，对于各种布局类型，光刻性能更好。
【作者】Shumay D. Shang；Yuri Granik；Lisa Swallow；Li-guo Zhang；Travis Brist；res Torres；
【作者单位】Mentor Graphics Corporation, 1001 Ridder Park Drive, San Jose, CA 95131;
【年(卷),期】2005(),
【年度】2005
【页码】P.59921Y.1-59921Y.10
【总页数】10
【原文格式】PDF
【正文语种】eng
【中图分类】TN305.7;
【关键词】光学邻近校正（OPC）;子分辨率辅助特征（SRAF）;处理窗口;接触层;掩模优化;掩模反转;分辨率增强技术（RET）;掩模简化；
