本文献为外文文献的中文摘要页面，您获取的文献为外文文献，点击返回原页面
【摘要】渐进式掩模缺陷问题是行业范围内的掩模可靠性问题。在这个问题的开始期间，当掩模上的缺陷刚刚形成并且仍然不很严重时，可以在生产中以相对较低的良率影响风险继续运行这样的问题掩模。但是，当缺陷接近更严重的状态时，需要决定是否将掩膜从生产中拉出以进行清洁（修理）。由于在使用昂贵的掩模进行DUV光刻的高端掩模上，这一问题日益严重，因此，为了使制造中的问题掩模在生产中保持尽可能长的时间，并仅在绝对必要时才将其停产，这符合晶圆厂的利益。即，当缺陷在这些掩模上达到如此严重的条件时，它将影响工艺窗口。在这项技术工作的过程中，已经进行了调查，以了解这种小的渐进缺陷对过程窗口的影响。可以看出，在最佳的聚焦曝光条件下，可能无法打印出一个小的生长缺陷，但仍会影响工艺窗口并使其显着缩小。借助高分辨率的直接掩模版检查，可以尽早发现这些缺陷，但晶圆厂仍在寻找在这些有缺陷的掩模上进行处理（通过/不通过的决定）的方法。但这不是一件容易的事，因为这些缺陷的影响不仅取决于它们的大小，还取决于它们的传播和MEEF。已经对光刻检测器进行了评估，以查看其是否可以预测此类渐进式掩模缺陷的严重性。
【作者】Jerry Huang；Lan-Hsin Peng；Chih-Wei Chu；Kaustuve Bhattacharyya；Ben Eynon；Farzin Mirzaagha；Tony Dibiase；Kong Son；Jackie Cheng；Ellison Chen；Den Wang；
【作者单位】ProMOS Technologies, Taiwan, R.O.C.;
【年(卷),期】2005(),
【年度】2005
【页码】P.599206.1-599206.8
【总页数】8
【原文格式】PDF
【正文语种】eng
【中图分类】TN305.7;
