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【摘要】目前，ALTA®4300代深紫外（DUV）激光工具能够为130nm和90nm IC技术节点印刷关键和半关键光掩模。借助改进的光学元件，改进的物镜和更高带宽的数据路径，该工具的功能得到了显着增强。工具衍射光学元件（DOE）和声光调制器（AOM）均已改进。此外，工具33x，0.8NA物镜已替换为42x，0.9NA物镜。最后，工具数据路径增强功能使关键级别的写入时间保持在不到四个小时的水平。这些增强功能的定量结果将通过报告关键特征分辨率限制，CD均匀性控制以及在掩模上的图案放置精度来详细说明。性能将通过在硬件升级之前和之后印刷的口罩显示出来。实验结果将显示实际的改进。在本文中，将详细显示在升级前和升级后使用DUV Laser生成的光掩模打印晶圆时创建的航拍图像。将讨论具有多种照明条件的248nm和193nm源打印。将记录每种工具配置对光掩模进行的打印测试比较的详细信息。打印测试比较将包括每种掩模类型的工艺窗口特征。 DUV激光产生的光掩模的可检查性研究也将重点介绍。
【作者】Robert Kiefer；Peter Buck；Vishal Garg；Jason Hickethier；Curt Jackson；John Manfredo；Cris Morgante；Paul Allen；Michael White；
【作者单位】Research Development Group, Toppan Photomasks, Inc. 400 Texas Avenue, Round Rock, TX 78664;
【年(卷),期】2005(),
【年度】2005
【页码】P.59920U.1-59920U.12
【总页数】12
【原文格式】PDF
【正文语种】eng
【中图分类】TN305.7;
