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Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics
Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics
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1.
ON THE TRAPPING KINETICS OF ELECTRON TRAPS CREATED IN SILICON DIOXIDES
机译：
在二氧化硅中产生的电子陷阱捕获动力学
作者：
M. H. Chang
;
J. F. Zhang
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
2.
ONSET OF DIELECTRIC BREAKDOWN IN LPCVD SILICON OXYNITRIDE THIN FILMS
机译：
LPCVD氧氮化硅薄膜中的介电击穿的发作
作者：
S. Habennehl
;
R. T. Apodaca
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
3.
EFFECT OF POST NITRIDATION ANNEAL ON PHYSICAL PROPERTIES OF PLASMA NITRIDED OXIDES
机译：
后氮化退火对等离子体氮化氧化物物理性质的影响
作者：
J. Bienacel
;
D. Barge
;
P. Garnier
;
M. Bidaud
;
L. Vishnubhotla
;
I. Pouilloux
;
K. Barla
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
4.
INVESTIGATION AND CHARACTERISATION OF MIM STRUCTURES BASED ON MOCVD AND PEALD DEPOSITED Ta2O5 FILMS
机译：
基于MOCVD和PEALD TA2O5薄膜的MIM结构的调查与表征
作者：
E. Deloffre
;
C. Wyon
;
M. Gros-Jean
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
5.
TENSILE CONTACT ETCH STOP SILICON NITRIDE FOR NMOS PERFORMANCE ENHANCEMENT: INFLUENCE OF THE FILM MORPHOLOGY
机译：
拉伸蚀刻蚀刻硅氮化物用于NMOS性能增强：薄膜形态的影响
作者：
P. Morin
;
C. Chaton
;
C. Reddy
;
C. Ortolland
;
M. T. Basso
;
F. Arnaud
;
K. Barla
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
6.
FAR- AND MID-INFRARED ABSORPTION STUDY OF HfOz/SiO2/Si SYSTEM
机译：
HFOZ / SIO2 / SI系统的远红外吸收研究
作者：
A. Toriumi
;
K. Tomida
;
H. Shimizu
;
K. Kita
;
K. Kyuno
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
7.
ROOM TEMPERATURE DEPOSITED SiN: CHARACTERISATION AND APPLICATIONS IN MMICs
机译：
室温沉积SIN：MMICS中的特征和应用
作者：
K. Elgaid
;
H. Zhou
;
C. D. W. Wilkinson
;
I. G. Thayne
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
8.
CHARGING DAMAGE DURING PLASMA ENHANCED SILICON NITRIDE/OXIDE THIN FILM DEPOSITION
机译：
等离子体增强型氮化硅/氧化物薄膜沉积中的充电损坏
作者：
Kin P. Cheung
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
9.
AN INVESTIGATION OF POSITIVE CHARGES FORMED DURING NEGATIVE BIAS TEMPERATURE STRESS
机译：
负偏置温度应激期间形成正电荷的研究
作者：
M. H. Chang
;
J. F. Zhang
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
10.
STUDY OF HYDROGEN DESORPTION FROM PECVD SILICON NITRIDE AND INDUCED DEFECT PASSIVATION
机译：
PECVD氮化硅氢解吸的研究及诱导缺陷钝化
作者：
D. Benoit
;
P. Morin
;
J. L. Regolini
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
11.
STRESS CONTROL OF Si-BASED PECVD DIELECTRICS
机译：
基于SI的PECVD电介质应力控制
作者：
K. D. Mackenzie
;
D. J. Johnson
;
M. W. DeVre
;
R. J. Westerman
;
B. H. Reelfs
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
12.
CHARACTERISTICS OF ORGANIC FILM DEPOSITED BY PLASMA-ENHANCED CVD USING BCB RESIN
机译：
使用BCB树脂血浆增强CVD沉积有机膜的特征
作者：
Suehiro Sugitani
;
Hideaki Matsuzaki
;
Takatomo Enoki
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
13.
OPTICAL PROPERTIES OF NANOSTRUCTURES BASED ON SILICON RICH SILICON OXIDE (SRSO) THIN FILMS
机译：
基于硅富氧化硅（SRSO）薄膜的纳米结构的光学性质
作者：
T. Roschuk
;
J. Wojcik
;
D. Comedi
;
M. J. Flynn
;
E. A. Irving
;
O. H. Y. Zalloum
;
P. Mascher
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
14.
HYDROGEN MODEL FOR NEGATIVE BIAS TEMPERATURE INSTABILITIES IN MOS GATE DIELECTRICS
机译：
MOS栅极电介质中负偏置温度稳定性的氢模型
作者：
D. M. Fleetwood
;
X. J. Zhou
;
L. Tsetseris
;
S. T. Pantelides
;
R. D. Schrimpf
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
15.
PECVD-INDUCED DAMAGE ON ULTRA THIN SIO2 LAYERS
机译：
PECVD诱导的超薄SiO2层损伤
作者：
G. Cellere
;
A. Paccagnella
;
M. G. Valentini
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
16.
HIGH DENSITY PLASMA GROWTH OF THERMAL QUALITY SIO2 THIN FILMS
机译：
高密度等离子体热质质量SiO2薄膜生长
作者：
P. C. Joshi
;
Y. Ono
;
A. T. Voutsas
;
J. W. Hartzell
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
17.
PULSED METALORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF IRON OXIDES AND BISMUTH - IRON OXIDES
机译：
铁氧化物和铋 - 氧化铁的脉冲金属有机化学气相沉积
作者：
Thery Jessica
;
Baron Thierry
;
Dubourdieu Catherine
;
Ternon Celine
;
Pelissier Bernard
;
Roussel Herve
;
Coindeau Stephane
;
Prejebeanu Ioan-Lucian
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
18.
A METHOD FOR STUDYING THE DIFFERENT KINDS OF TRAPS AT THE Si-SiO2 INTERFACE IN MOS DEVICES
机译：
一种研究MOS器件中Si-SiO2接口不同种类陷阱的方法
作者：
Y. Maneglia
;
D. Bauza
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
19.
NOVEL CHARACTERIZATION TECHNIQUES FOR INTERFACE RELATED DEFECTS IN SEMICONDUCTOR-INSULATOR SYSTEMS
机译：
半导体绝缘体系统中界面相关缺陷的新颖特征技术
作者：
B. Hamilton
;
M. Ishii
;
A. R. Peaker
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
20.
NEGATIVE-BIAS-TEMPERATURE INSTABILITY IN Si/SiO2 AND Si/SiOxNy STRUCTURES
机译：
Si / SiO2和Si / SiOxny结构中的负偏置温度不稳定
作者：
A. G. Revesz
;
H. L. Hughes
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
21.
NEGATIVE BIAS TEMPERATURE INSTABILITY IN ULTRA-THIN SION
机译：
超薄Sion中的负偏置温度不稳定性
作者：
Yuichiro Mitani
;
Hideki Satake
;
Akira Toriumi
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
22.
PLASMA TREATMENTS AND PECVD DIELECTRIC DEPOSITION IMPACT ON POROUS SiOC
机译：
血浆处理和PECVD介电沉积对多孔SIOC的影响
作者：
V. Jousseaume
;
P. Maury
;
Ch. Le Cornec
;
A. Zenasni
;
B. Remiat
;
F. Fusalba
;
G. Passemard
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
23.
PHYSICAL MECHANISMS OF ULTRA-THIN SILICON DIOXIDE DEGRADATION AND BREAKDOWN
机译：
超薄二氧化硅降解和击穿的物理机制
作者：
Eric M. Vogel
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
24.
PROCESS EFFECTS AND CHARACTERIZATION OF Hf-based DIELECTRICS
机译：
基于HF的电介质的过程效果和表征
作者：
Jack C. Lee
;
S. Rhee
;
C. Kang
;
C. Choi
;
S. Krishnan
;
I. Ok
;
M. Akbar
;
H. Kim
;
F. Zhu
;
M. Zhang
;
T. Lee
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
25.
PROPERTIES OF HIGH K AND EXTREMELY THIN SILICON NITRIDE STACKS
机译：
高k和极薄的氮化硅叠层的性质
作者：
Z. Zhang
;
Y. Fedorenko
;
L. Truong
;
X. Shi
;
V. Afanasev
;
A. Stesmans
;
S. A. Campbell
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
26.
POINT DEFECTS AND TRAPS IN STACKS OF ULTRATHIN HIGH-K METAL OXIDES ON Si PROBED BY ELECTRON SPIN ESONANCE: THE Si/HFO2 SYSTEM AND N INCORPORATION
机译：
通过电子旋屏探测的超薄高k金属氧化物堆叠的点缺陷和陷阱：Si / hfo2系统和n Incorporation
作者：
A. Stesmans
;
V. V Afanasev
;
K. Clemer
;
F. Chen
;
S. A. Campbell
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
27.
METALLIZATION OF SEALED POROUS MSQ
机译：
密封多孔MSQ的金属化
作者：
Timothy S. Calea
;
Dae-Lok Bae
;
Christopher Jezewski
;
Jay J. Senkevich
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
28.
ANGLE-RESOLVED PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY STUDY ON GATE INSULATORS
机译：
闸门绝缘子的角度分辨光电子体光谱研究
作者：
H. Nohira
;
N. Tamura
;
J. Ushio
;
T. Hattori
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
29.
RECENT DEVELOPMENT OF CMOS TECHNOLOGY WITH Hf-BASED HIGH-k DIELECTRIC
机译：
基于HF高k电介质的CMOS技术最近的开发
作者：
S. C. Song
;
G. Bersuker
;
Z. Zhang
;
B. H. Lee
;
C. Huffman
;
S. H. Bae
;
J. H. Sim
;
P. Kirsch
;
P. Majhi
;
N. Moumen
;
C. Ramiller
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
30.
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING (CMP) OF UNDOPED AND DOPED CERAMIC AND POLYMERIC INTERLAYER DIELECTRIC (ILD) MATERIALS FOR MICROELECTRONIC APPLICATIONS
机译：
用于微电子应用的未掺杂和掺杂陶瓷和聚合物层间电介质（ILD）材料的化学机械抛光（CMP）
作者：
Parshuram B. Zantye
;
Ashok Kumar
;
J. Yota
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
31.
LOW-K DIELECTRICS: IMPLICATIONS TO NANOELECTRONIC AND PHOTONIC APPLICATIONS
机译：
Low-K电介质：对纳米电子和光子应用的影响
作者：
Hong Zhou
;
Frank G. Shi
;
Bin Zhao
;
Jiro Yota
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
32.
POROSITY AND CRITICAL PROPERTIES OF SILICA-BASED LOW-DIELECTRIC-CONSTANT MATERIALS
机译：
基于二氧化硅的低介电常数材料的孔隙率和关键性能
作者：
M. R. Baklanov
;
Y. Travaly
;
Q. T. Le
;
D. Shamiryan
;
S. Vanhaelemeersch
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
33.
HIGH PRECISION XPS MEASUREMENT OF SION THICKNESS AND NDOSE
机译：
高精度XPS测量SiON厚度和NDOSE
作者：
Wesley Nieveen
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
34.
DEVELOPMENT METHODOLOGY FOR HIGH-k GATE DIELECTRICS ON III-V SEMICONDUCTORS:Ga_2O_3 TEMPLATE ON GaAs
机译：
III-V半导体高k栅极电介质的开发方法：GA_2O_3 GaAs上的模板
作者：
Matthias Passlack
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
35.
IMPORTANCE OF INTERFACE TRAPS ON DIELECTRIC CHARACTERISTICS OF NANOMETER-THICK GATE INSULATORS
机译：
界面陷阱对纳米厚栅极绝缘子介电特性的重要性
作者：
Yasushiro Nishioka
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
36.
MULTIFUNCTIONAL OXIDES ON Si
机译：
SI上的多功能氧化物
作者：
A. M. Grishin
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
37.
PRESENT RELIABILITY ISSUES IN ULTRATHIN OXINITRIDE FILMS
机译：
超薄氧化氮膜的现有可靠性问题
作者：
B. Kaczer
;
R. Degraeve
;
V. Arkhipov
;
G. Groeseneken
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
38.
ELECTRICALLY ACTIVE INTERFACE DEFECTS IN Si/SiO2 AND Si(100)/HfO2 STRUCTURES
机译：
Si / SiO2和Si（100）/ HFO2结构中的电气活跃接口缺陷
作者：
P. K. Hurley
;
B. J. OSullivan
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
39.
ELECTRICAL CHARACTERIZATION OF HIGH K DEVICES: CHARGES AND TRAPS EFFECTS ON INSTABILITY, RELIABILITY AND MOBILITY BEHAVIOUR
机译：
高K器件的电气表征：对不稳定性，可靠性和移动行为的影响和陷阱效应
作者：
G. Reimbold
;
J. Mitard
;
M. Casse
;
X. Garros
;
C. Leroux
;
L. Thevenod
;
F. Martin
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
40.
NITRIFICATION OF SEMICONDUCTOR SURFACES FOR IMPROVED PROPERTIES OF ELECTRICAL AND OPTICAL DEVICES
机译：
用于改进电气和光学装置的性能的半导体表面的硝化
作者：
Christofer Silfvenius
;
Yanting Sun
;
Peter Blixt
;
Carsten Lindstrom
;
Alfred Feitisch
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
41.
DEVELOPMENT METHODOLOGY FOR fflGH-K GATE DIELECTRICS ON in-V SEMICONDUCTORS: Ga2O3 TEMPLATE ON GaAs
机译：
V型半导体上FFLGH-K栅极电介质的开发方法：GA2O3在GAAS上的GA2O3模板
作者：
Matthias Passlack
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
42.
OXIDE AND HOT CARRIER RELIABILITY STUDIES FOR STRAINED Si-ON RELAXED SiGe MOS DEVICES
机译：
氧化物和热载体可靠性研究，其应变Si-on宽松SiGe MOS装置
作者：
S. Joshi
;
D. Ahmad
;
M. Palard
;
D. Kelly
;
D. Onsongo
;
S. Dey
;
L. Fei
;
T. Torack
;
M. Seacrist
;
B. Kellerman
;
S. K. Banerjee
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
43.
NITROGEN PROFILE AND ELECTRICAL PROPERTIES OF REOXIDIZED THERMALLY GROWN SILICON NITRIDES
机译：
环化热生长氮化物的氮素谱和电性能
作者：
A. Ludsteck
;
J. Schulze
;
I. Eisele
;
W. Dietl
;
H. Chung
;
Z. Ndnyei
;
A. Bergmaier
;
G. Dollinger
会议名称：
《Electrochemical Society Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics》
|
2005年
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