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Optical Microlithography XII
Optical Microlithography XII
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1.
Application of a new approach to optical proximity correction
机译:
一种新方法在光学邻近校正中的应用
作者:
Author(s): Anja Rosenbusch Sigma-C GmbH Campbell CA USA
;
Andrew C. Hourd Compugraphics International Ltd. Glenrothes Fife United Kingdom
;
Casper A. Juffermans Philips Research Labs. Eindhoven Netherlands
;
Hartmut Kirsch Sigma-C GmbH Muenchen Germany
;
Frederic P. Lalanne CNET-STMicroelectronics Crolles Cedex France
;
Wilhelm Maurer Siemens AG Muenchen Germany
;
Carmelo Romeo STMicroelectronics Agrate Brianza Italy
;
Kurt Ronse IMEC Leuven Belgium
;
Patrick Schiavone France Telecom CNET-CNS Issy Moulineaux Cedex 9 France
;
Michal Simecek Sigma-C GmbH Muenchen Germany
;
Olivier Toublan France Telecom CNET-CNS San Jose CA USA
;
Tom Vermeulen IMEC Leuven Belgium
;
John G. Watson Rutherford Appleton Lab. Didcot Oxon United Kingdom
;
Wolfram Ziegler Siemens AG Muenchen Germany
;
Rainer Zimmermann Siemens AG Muenchen Germany.
会议名称:
《Optical Microlithography XII》
2.
Performance of a highly stable 2-kHz operation KrF laser
机译:
高度稳定的2 kHz工作KrF激光器的性能
作者:
Author(s): Tatsuo Enami Komatsu Ltd. Hiratsuka-shi Kanagawa Japan
;
Masaki Nakano Komatsu Ltd. Kanagawa Japan
;
Takayuki Watanabe Komatsu Ltd. Hiratsuka Kanagawa Japan
;
Ayako Ohbo Komatsu Ltd. Hiratsuka Kanagawa Japan
;
Tsukasa Hori Komatsu Ltd. Hiratsuka Kanagawa Japan
;
Takashi Ito Komatsu Ltd. Hiratsuka Kanagawa Japan
;
Toshihiro Nishisaka Komatsu Ltd. Tochigi-ken Japan
;
Akira Sumitani Komatsu Ltd. Hiratsuka Kanagawa Japan
;
Osamu Wakabayashi Komatsu Ltd. Hiratsuka Kanagawa Japan
;
Hakaru Mizoguchi Komatsu Ltd. Hiratsuka Kanagawa Japan
;
Hiroaki Nakarai Komatsu Ltd. Oyama-shi Tochigi-ken Japan
;
Naoto Hisanaga Komatsu Ltd. Oyama Tochigi Japan
;
Takeshi Matsunaga Komatsu Ltd. Oyama Tochigi Japan
;
Hirokazu Tanaka Komatsu Ltd. Tochigi-ken Japan
;
Tatsuya Ariga Komatsu Ltd. Tochigi-ken Japan
;
Syouich Sakanishi Komatsu Ltd. Oyama Tochigi Japan
;
Takeshi Okamoto Komatsu Ltd. Oyama-shi Tochigi-ken Japan
;
Ryouichi Noudomi Komatsu Ltd. Oyama-Shi Tochigi Japan
;
Takashi Suzuki Komatsu Ltd. Oyama Tochigi Japan
;
Yuuici Takabayashi Komatsu Ltd. Oyama Tochigi Japan
;
Hitoshi Tomaru Komatsu Ltd. Tochigi-ken Japan
;
Kiyoharu Nakao Komatsu Ltd. Tochigi-ken Japan.
会议名称:
《Optical Microlithography XII》
3.
New application of negative DUV resist for topographical metal layer microlithography
机译:
负DUV抗蚀剂在地形金属层微光刻中的新应用
作者:
Author(s): Yung-Tin Chen Chang Gung Univ. Kweishan Taoyuan Taiwan
;
Ron Chu Nan Ya Technology Corp. Taoyuan Taiwan.
会议名称:
《Optical Microlithography XII》
4.
Characterizing absorption and total scattering losses on optical components for 193-nm wafer steppers
机译:
表征193 nm晶圆步进器在光学组件上的吸收和总散射损耗
作者:
Author(s): Klaus R. Mann Laser-Lab. Goettingen e.V. Goettingen Germany
;
Oliver Apel Laser-Lab. Goettingen e.V. Goettingen Germany
;
Eric Eva Laser-Lab. Goettingen e.V. Goettingen Germany.
会议名称:
《Optical Microlithography XII》
5.
High-speed alignment simulator for Nikon steppers
机译:
尼康步进机的高速对准模拟器
作者:
Author(s): Derek P. Coon Nikon Research Corp. of America Belmont CA USA
;
Arun A. Aiyer Nikon Research Corp. of America Milpitas CA USA
;
Henry K. Chau Nikon Research Corp. of America Belmont CA USA
;
Hiroshi Ooki Nikon Research Corp. of America Belmont CA USA.
会议名称:
《Optical Microlithography XII》
6.
Automatic parallel optical proximity correction system for application with hierarchical data structure
机译:
具有分层数据结构的自动并行光学邻近校正系统
作者:
Author(s): Eiji Tsujimoto Hitachi Ltd. Ome-shi Tokyo Japan
;
Takahiro Watanabe Hitachi Ltd. Ome-shi Tokyo Japan
;
Kyoji Nakajo Hitachi ULSI Systems Co. Ltd. Tokyo Japan.
会议名称:
《Optical Microlithography XII》
7.
Application of the hybrid finite-difference time-domain method to modeling curved surfaces in three-dimensional lithography simulation
机译:
混合时域有限差分法在三维光刻模拟曲面建模中的应用
作者:
Author(s): Michael S. Yeung Boston Univ. Boston MA USA
;
Eytan Barouch Boston Univ. Boston MA USA.
会议名称:
《Optical Microlithography XII》
8.
Design of 200-nm 170-nm and 140-nm DUV contact sweeper high-transmission attenuating phase-shift mask: II. Experimental results
机译:
200 nm 170 nm和140 nm DUV接触式扫频器高透射衰减相移掩模的设计:II。实验结果
作者:
Author(s): Robert J. Socha National Semiconductor Corp. Santa Clara CA USA
;
Xuelong Shi National Semiconductor Corp. Santa Clara CA USA
;
Ken C. Holman National Semiconductor Corp. Santa Clara CA USA
;
Mircea V. Dusa National Semiconductor Corp. Santa Clara CA USA
;
Will E. Conley National Semiconductor Corp. Santa Clara CA USA
;
John S. Petersen Petersen Advanced Lithography Austin TX USA
;
Jang Fung Chen MicroUnity Systems Engineering Inc. Sunnyvale CA USA
;
Tom L. Laidig MicroUnity Systems Engineering Inc. Sunnyvale CA USA
;
Kurt E. Wampler MicroUnity Systems Engineering Inc. Sunnyvale CA USA
;
Roger F. Caldwell MicroUnity Systems Engineering Inc. Sunnyvale CA USA
;
M.C. Chu Precision Semiconductor Mask Corporation Hsin-Chu City Taiwan
;
C.Su Precision Semiconductor Mask Corporation Hsin-Chu Taiwan
;
K.Huang Precision Semiconductor Mask Corporation Hsin-Chu Taiwan
;
C.Chen Precision Semiconductor Mask Corporation Hsin-Chu Taiwan
;
F.Wang Precision Semiconductor Mask Corporation Hsin-Chu Taiwan
;
C.Le Precision Semiconductor Mask Corporation Hsin-Chu Taiwan
;
Christophe Pierrat Precision Semiconductor Mask Corporation ROC Taiwan
;
Bo Su Applied Materials Inc. Santa Clara CA USA.
会议名称:
《Optical Microlithography XII》
9.
Application of blazed gratings for determination of equivalent primary azimuthal aberrations
机译:
闪耀光栅在确定等效主方位像差中的应用
作者:
Author(s): Joseph P. Kirk IBM Microelectronics Div. Hopewell Junction NY USA
;
Christopher J. Progler IBM Microelectronics Div. Hopewell Jct NY USA.
会议名称:
《Optical Microlithography XII》
10.
Resolution enhancement through optical proximity correction and stepper parameter optimization for 0.12-um mask pattern
机译:
通过光学接近度校正和步进器参数优化实现0.12um掩模图案的分辨率增强
作者:
Author(s): Yong H. Oh Wonkwang Univ. Chollabukdo South Korea
;
Jai-Cheol Lee Wonkwang Univ. Iksan City Chollabukdo South Korea
;
Sungwoo Lim Wonkwang Univ. Iksan City Chollabukdo South Korea.
会议名称:
《Optical Microlithography XII》
11.
Approach to pattern aspect ratio control
机译:
模式长宽比控制的方法
作者:
Author(s): Alan C. Thomas IBM Semiconductor Research and Development Ctr. Hughsonville NY USA
;
Franz X. Zach IBM Semiconductor Research and Development Ctr. Hopewell Junction NY USA
;
Alfred K. Wong IBM Semiconductor Research and Development Ctr. Hopewell Junction NY USA
;
Richard A. Ferguson IBM Semiconductor Research and Development Ctr. Hopewell Junction NY USA
;
Donald J. Samuels IBM Semiconductor Research and Development Ctr. Silverthorne CO USA
;
Rosemary Longo IBM Semiconductor Research and Development Ctr. Hopewell Junction NY USA
;
John Zhu IBM Semiconductor Research and Development Ctr. Hopewell Junction NY USA
;
Christopher Feild IBM Semiconductor Research and Development Ctr. Hopewell Junction NY USA.
会议名称:
《Optical Microlithography XII》
12.
Customized off-axis illumination aperture filtering for sub-0.18-um KrF lithography
机译:
小于0.18um KrF光刻的定制离轴照明孔径滤波
作者:
Author(s): Chin C. Hsia Industrial Technology Research Institute Chutung Hsinchu Taiwan
;
Tsai-Sheng Gau Industrial Technology Research Institute Chutung Hsinchu Taiwan
;
Chuen-Huei Yang Industrial Technology Research Institute Chutung Hsinchu Taiwan
;
Ru-Gun Liu Industrial Technology Research Institute Chutung Hsinchu Taiwan
;
Chung-Hsing Chang Industrial Technology Research Institute Chutung Hsinchu Taiwan
;
Li-Jui Chen Industrial Technology Research Institute Chutung Hsinchu Taiwan
;
Chien-Ming Wang Industrial Technology Research Institute Chutung Hsinchu Taiwan
;
Jang Fung Chen MicroUnity Systems Engineering Inc. Sunnyvale CA USA
;
Bruce W. Smith Rochester Institute of Technology Rochester NY USA
;
Gue-Wuu Hwang Industrial Technology Research Institute Chutung Hsinchu Taiwan
;
Jiann-Wen Lay Industrial Technology Research Institute Chutung Hsinchu Taiwan
;
Dong-Yuan Goang Industrial Technology Research Institute Chutung Hsinchu Taiwan.
会议名称:
《Optical Microlithography XII》
13.
Systematic approach to correct critical patterns induced by the lithography process at the full-chip level
机译:
系统方法可在全芯片水平上纠正由光刻工艺引起的关键图案
作者:
Author(s): Chulhong Park Samsung Electronics Co. Ltd. Yongin-Gun Kyungki-do South Korea
;
Yoo-Hyon Kim Samsung Electronics Co. Ltd. Kyungki-do South Korea
;
Ji-Soong Park Samsung Electronics Co. Ltd. Yongin-Shi Kyungki-Do South Korea
;
Kwan-Do Kim Samsung Electronics Co. Ltd. Yongin-Shi Kyungki-Do South Korea
;
Moon-Hyun Yoo Samsung Electronics Co. Ltd. Yongin-Shi Kyungki-Do South Korea
;
Jeong-Taek Kong Samsung Electronics Co. Ltd. Yongin-Gun Kyungki-do South Korea.
会议名称:
《Optical Microlithography XII》
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