プラズマプロセスシミュレーション

摘要

ドライブロセス技術である真空技術およびプラズマプロセ ス技術の中で物理・化学蒸着，スパッタリング，エッチン グ，イオン注入，表面改質などの技術は様々な製品製造に利 用されてきた．ここで真空とは大気圧以下の状態をいうが， そこで使用される装置はその目的に応じて多種多様である． これら真空装置内での原子・分子の挙動，およびプラズマ 装置内での荷電粒子，中性粒子の挙動を解析することは，装 置の改良，新規装置の開発に関する方向性を短期間で見出す ために重要な要素となる．