プラズマエッチングによるマイクロ流体チップ用チタン製微細金型製造技術の開発

摘要

RIEを用いたチタンの微細加工を行い，ガス圧力0.3Paの条件下では表面粗さ40 nm以下で加工できることを，また高周波電力70 Wの条件下ではエツチングレート0.3 (Um/min 以上で加工できることを明らかにした.また微細金型を試作し，良好な成形性を得た.本研究のRIEを用いたチタンの微細加工方法は，マイクロ流体チップ射出成形用の微細金型製造技術として期待される.%This paper describes the microfabrication of titanium micro molds for the microfluidic chip by a reactive ion etching (RIE) system. The etching was carried out using SF_6 plasma. We have examined the etching rate and surface roughness at the range of process pressure 0.3-0.7 Pa and RF (13.56 MHz radio-frequency) power 30-70 W. The etching rate is over 0.3 μm/min at the RF power of 70 W. The surface roughness of etched substrates is below 40 nm at the process pressure of 0.3 Pa. We made a titanium micro mold and molded microfluidic chips by using polycarbonate, and microresico® (Polypropylene resin).