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透過型電子顕微鏡を用いたナノスケール構造体中の塑性領域に対するその場観察試験手法の開発

机译:透射电子显微镜对纳米结构塑性区原位观察测试方法的开发

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摘要

界面と表面が会合する界面端近傍では,変形のミスrnマッチに起因した応力集中が生じる.このため,rn界面端は,塑性変形や破壊の優先的な発生起点になりrnやすい.マクロ材料に対しては,界面端近傍の応力場rnに注目した変形・破壊に関する多くの研究がなされてrnきた.%In order to specify the plasticity of a nanoscale Cu component, we develop a novel experimental method by means of a general purpose transmission electron microscopy (TEM). The characteristic shape of a designed thin specimen, where a Cu film with the thickness of 200 nm is sandwiched by rigid materials (Si substrate and SiN layer), enables us to apply a load near Cu/Si interface edge by an indenter, and prevents buckling due to compressive stress. Continuous in-situ TEM images of the Cu film during deformation are successfully obtained, and the generation and expansion of local plastic region of 10 nm-30 nm are recognized near the Cu/Si interface edge. The yield stress of the plastic region is approximately evaluated to be 200 MPa-400 MPa, which is close to the one obtained by an inverse analysis under a continuum assumption (345 MPa).
机译:在界面和表面相遇的界面边缘附近,由于变形不匹配而产生应力集中。因此,rn界面边缘趋于成为塑性变形和断裂的优选起点。对于宏观材料,已经针对变形/断裂进行了许多研究,重点是靠近界面边缘的应力场rn。 %为了确定纳米级Cu组分的可塑性,我们通过通用透射电子显微镜(TEM)开发了一种新颖的实验方法。设计的薄样品的特征形状是厚度为200的Cu膜nm被刚性材料(Si衬底和SiN层)夹在中间,使我们能够通过压头在Cu / Si界面边缘附近施加载荷,并防止由于压缩应力而引起的屈曲变形过程中连续不断的TEM图像已成功获得,并且在Cu / Si界面边缘附近发现了10 nm-30 nm的局部塑性区的产生和扩展。塑性区的屈服应力大约为200 MPa-400 MPa,接近在连续假设(345 MPa)下通过反分析获得的结果。

著录项

  • 来源
    《日本機械学会論文集 》 |2010年第772期| p.1713-1720| 共8页
  • 作者单位

    京都大学大学院工学研究科(〒606-8501 京都市左京区吉田本町);

    rnパナソニック(株)(〒571-8501 門真市大字門真1006);

    rn京都大学大学院工学研究科;

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  • 正文语种 jpn
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