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机译:氙或氩辅助等离子体等离子体辅助沉积的高折射率五氧化二钽涂层的制备及性能
Fmunhofer IOF, Albert-Einstein-Str.7, D-07745 Jena, Germany;
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Tantalum pentoxide; Plasma ion assisted deposition; Refractive index; Optical gap; Mechanical stress; Shift; Argon; Xenon;
机译:等离子体辅助偏置溅射沉积工艺沉积氮化钽涂层的微观结构和力学性能
机译:使用TaF_5源通过等离子体辅助沉积获得的五氧化二钽(Ta_2O_5)的性质
机译:氩气和氧气流速对等离子体增强化学气相沉积法沉积在聚对苯二甲酸乙二醇酯上的氧化硅涂层的水蒸气阻隔性能的影响
机译:从电子束沉积钽中阳极生长的五氧化二钽Ta_2O_5的光学性质与从Ta_2O_5源沉积的Ta_2O_5电子束的光学性质比较
机译:五氧化二钽-二氧化钛的制备和表征:陶瓷和薄膜。
机译:He / H2 / CH4 / N2混合物的微波等离子体化学气相沉积法沉积超光滑纳米结构金刚石(USND)涂层的合成及机械磨损研究
机译:具有无线电传递离子源的离子辅助沉积法对钽五氧化钽薄膜的光学和结构性能。
机译:等离子体源离子注入和常规离子束辅助沉积工艺沉积类金刚石碳涂层的合成与表征