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机译:等离子体增强了掺杂铁的二氧化薄膜的化学气相沉积,其结构和光润湿效果
Lodz Univ Technol, Inst Mat Sci & Engn, PL-90924 Lodz, Poland;
Lodz Univ Technol, Inst Mat Sci & Engn, PL-90924 Lodz, Poland;
Lodz Univ Technol, Inst Mat Sci & Engn, PL-90924 Lodz, Poland;
Lodz Univ Technol, Dept Mol Phys, PL-90924 Lodz, Poland;
Tech Univ Liberec, Inst Nanomat Adv Technol & Innovat, Liberec 46117 1, Czech Republic;
Lodz Univ Technol, Inst Mat Sci & Engn, PL-90924 Lodz, Poland;
Fe doped TiO2; PECVD method; FTIR spectra; Raman spectra; Morphology; Band gap; Photowetting;
机译:等离子体增强化学气相沉积法沉积氟掺杂二氧化硅薄膜的FTIR表征
机译:等离子体化学气相沉积和原子层沉积相结合沉积的掺Ge Sb-Te薄膜的生长和相分离行为
机译:等离子体增强脉冲化学气相沉积铁和铁碳化铁纤维薄膜的制造与表征
机译:等离子体加强的金属碳酸盐和苯胺或吡啶的化学气相沉积形成的芳族掺杂碳化硼薄膜:化学和电子结构
机译:通过铝的物理气相沉积和等离子体增强的三甲基硅烷化学气相沉积产生的薄膜的原位X射线光电子能谱分析。
机译:N2:(N2 + CH4)比在低温等离子体增强化学气相沉积法生长疏水纳米结构氢化氮化碳薄膜中的作用研究
机译:微波测量CH_4 / H_2 / N_2等离子体增强化学气相沉积过程中氮掺杂金刚石薄膜的椭偏研究