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机译:等离子体增强脉冲化学气相沉积铁和铁碳化铁纤维薄膜的制造与表征
Beijing Inst Graph Commun Lab Plasma Phys &
Mat Beijing 102600 Peoples R China;
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Fe and Fe1-xCx films; H-2 plasma; pulsed chemical vapor deposition;
机译:等离子体增强脉冲化学气相沉积铁和铁碳化铁纤维薄膜的制造与表征
机译:脉冲等离子体增强化学气相沉积系统的等离子体和气相表征,该系统设计用于氧化铝薄膜的自限生长
机译:脉冲液体注入等离子体增强金属有机化学气相沉积法沉积氧化钇和硅酸钇薄膜的微观结构和电学性质
机译:新型等离子体增强化学气相沉积源技术沉积氧化硅,氮化硅和碳化硅薄膜
机译:等离子体增强了硅薄膜的化学气相沉积:利用等离子体诊断技术表征不同频率和气体成分下的薄膜生长。
机译:脉冲等离子体化学气相沉积法制备纳米多孔非晶碳化硼薄膜的摩擦学和热稳定性研究
机译:硼烷等离子体增强化学气相沉积制备碳化硼薄膜的表征