机译:射频磁控溅射沉积非晶态富硅氮化硅薄膜的机械和电性能
Vienna Univ Technol, Inst Sensor & Actuator Syst, Floragasse 7, A-1040 Vienna, Austria;
Vienna Univ Technol, Inst Sensor & Actuator Syst, Floragasse 7, A-1040 Vienna, Austria;
Vienna Univ Technol, Inst Sensor & Actuator Syst, Floragasse 7, A-1040 Vienna, Austria;
Vienna Univ Technol, Inst Sensor & Actuator Syst, Floragasse 7, A-1040 Vienna, Austria;
Vienna Univ Technol, Inst Sensor & Actuator Syst, Floragasse 7, A-1040 Vienna, Austria;
RF reactive sputtering; Silicon nitride; Residual stress; Etching behaviour; Leakage current; Poole-Frenkel;
机译:直流磁控溅射沉积非晶硅氮化物薄膜的机械和电性能
机译:射频功率对射频磁控溅射沉积纳米结构氮化碳薄膜电学和力学性能的影响
机译:G.A.的结晶度,可蚀刻性,电气和机械性能直流磁控溅射沉积掺杂非晶铟锡氧化物薄膜
机译:目标材料对射频磁控溅射沉积未氢化非晶硅薄膜结构和电性能的影响
机译:射频反应磁控溅射在低温下沉积在硅上的压电氮化铝薄膜的声波器件特性
机译:射频磁控溅射沉积BiFeO3薄膜的结构和纳米力学性能
机译:通过反应磁控溅射沉积的无定形Mg-Si-O-N薄膜的光学和力学性能