机译:激发诱导的II-v化合物半导体表面原子解吸和结构不稳定性
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University, Mihogaoka 8-1, Ibaraki, Osaka 567-0047, Japan;
desorption induced by electronic transitions (diet); scanning tunneling microscopy; photochemistry; indium phosphide; single crystal surfaces;
机译:激发引起的半导体表面结构不稳定性
机译:用于原子层沉积的ii-v化合物半导体的液相和气相表面制备的比较
机译:原子表面结构在III-V型化合物半导体的金属有机化学气相沉积中的作用
机译:原子表面结构在III-V复合半导体的金属化学气相沉积中的作用
机译:使用介电常数化学和原子层沉积技术,在高介电常数薄膜和III-V化合物半导体之间形成界面。
机译:使用凹角纳米结构控制和建模III-V半导体表面的润湿特性
机译:单晶衬底表面的比较研究。从介电物质到半导体和金属。 III-V复合半导体的表面平坦度。
机译:III-V族化合物半导体(110)表面上的V柱覆盖层的新表面原子结构。