机译:交流加热中Si(001)稳定表面的研究
Hitachi Ltd, Res & Dev Grp, Hatoyama, Saitama 3500395, Japan;
Hitachi Ltd, Res & Dev Grp, Hatoyama, Saitama 3500395, Japan;
Reflection electron microscopy (REM); Diffusion and migration; Surface structure; Morphology; Roughness; And topography; Silicon; Vicinal single crystal surface;
机译:交流电加热后Si(001)表面的结构变化
机译:硅 的 结构变化 ( 001 ) 表面 后 交流 暖气
机译:通过交流表面光电压在热氧化的铁污染的n型Si(001)晶片中检测到的金属感应的负电荷
机译:通过交替的热通量调查电流导体接触系统的瞬态加热
机译:磷和锡在铜(001)表面沉积过程中氦原子散射研究的表面结构演变和振动动力学。
机译:(001)GaAs表面润湿角分析研究金属滴模板腐蚀的中间阶段
机译:通过直接电流加热下升华时硅(001)表面上的原子步骤重新排列
机译:二氧化甲基膦酸二甲酯在TiO2锐钛矿(001)表面吸附的第一性原理研究:形成稳定的钛氧基(Ti = O)位点