机译:碳子分子在N-SiC电导率补偿中的作用
Санкт-Петербургский государственный политехнический университет 195251 Санкт-Петербург Россия;
Санкт-Петербургский государственный политехнический университет 195251 Санкт-Петербург Россия;
Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе РАН 194021 Санкт-Петербург Россия;
Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе РАН 194021 Санкт-Петербург Россия;
протонное облучение; первично выбитый атом; резерфордовское рассеяние; радиационный дефект; пара Френкеля; карбид кремния; вакансия углерода;
机译:碳晶格在补偿n-SiC电导率中的作用
机译:基于Znmgo-纳米棒的基于肖特基发光二极管,使用低温方法在N-SiC衬底上制造
机译:AU / Si3N4 / 4H N-SIC MIS二极管的温度依赖性电气特性
机译:用AR +植入边缘终端和异质结P-NiO / N-SiC二极管的制造1.6 kV孔设计Ni / N-SiC肖特基势差二极管的综合比较
机译:石墨/ N-SiC UV探测器通过电子束蒸发制造