...
机译:退火温度对磁控溅射沉积氮掺杂氧化锌薄膜性能的影响
Department of Life Sciences, Jilin Normal University, Siping 136000, PR China;
Department of Physics, Jilin Normal University, Siping 136000, PR China;
Department of Physics, Jilin Normal University, Siping 136000, PR China;
Zinc oxide film; Nitrogen doping; Annealing temperature; Magnetron sputtering;
机译:后退火气氛对直流和射频磁控共溅射沉积氧化锌镉薄膜的微观结构,光电性能的影响
机译:退火型气氛对DC和RF磁控膜沉积的锌氧化镉膜的微观结构,光学和电性能的影响
机译:铟的添加和后退火对直流磁控溅射沉积镓掺杂氧化锌薄膜的结构,电学和光学性能的影响
机译:磁控溅射氧化锌膜对退火温度对ZnO薄膜的影响
机译:氢退火和衬底温度对射频溅射氧化锌薄膜性能的影响
机译:在不加热衬底的情况下通过射频磁控等离子体溅射沉积的铝掺杂氧化锌薄膜的空间分辨光电性能
机译:衬底温度对直流磁控溅射沉积铝掺杂氧化锌薄膜性能的影响