大阪工場で最先端プロセス向け半導体フォトレジストの生産能力を増強

摘要

当社は、液浸ArF(フッ化アルゴン)、EUV(極端紫外線)などの最先端プロセス向け半導体フォトレジストについて、大阪工場の製造ラインを増設し、生産能力を引き上げることにしました。新製造ラインの稼働開始は2022年度上期を予定しています。フォトレジストは、半導体製造工程におけるパターン形成に使用される感光性樹脂です。当社は、各種ファインケミカル事業で培った有機合成技術をベースに高い製品設計·評価技術を確立し、フォトレジスト事業を拡大してきました。