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【24h】

A micromachined low-power temperature-regulated bandgap voltage reference

机译:微加工的低功率温度调节带隙基准电压源

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摘要

A low-power, temperature-regulated bandgap voltage reference is demonstrated in a commercial CMOS process. Low-power operation is achieved by thermally isolating a small portion of the die using a single postprocess micromachining step requiring no extra masks or modifications to the CMOS process. The reference has a 53000/spl deg/ C/W thermal resistance, a 2.5 ms thermal time constant, and uses 1.5 mW at 25/spl deg/C. Temperature regulation improves the temperature coefficient from 100 ppm//spl deg/C to 9 ppm//spl deg/C over 0-80/spl deg/C.
机译:在商用CMOS工艺中演示了一种低功耗,温度调节的带隙基准电压源。低功耗操作是通过使用单个后处理微机械加工步骤对一小部分裸片进行热隔离而实现的,不需要额外的掩模或对CMOS工艺进行修改。该基准具有53000 / spl deg / C / W的热阻,2.5 ms的热时间常数,在25 / spl deg / C的情况下使用1.5 mW。温度调节在0-80 / spl deg / C的范围内将温度系数从100 ppm // spl deg / C提高到9 ppm // spl deg / C。

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