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A micromachined low-power temperature-regulated bandgap voltage reference

机译:微加工的低功率温度调节带隙基准电压源

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摘要

This paper describes a temperature regulated bandgap voltage reference fabricated in a foundry CMOS process. Using a simple post-processing micromachining step, a small portion of the chip containing the reference circuitry is thermally isolated from the rest of the silicon die. Having high thermal resistance and small thermal mass, the reference requires 200 times less power and warms up 160 times faster than previous heated-substrate circuits. The reference, in a standard CMOS process, can be included on-chip with CMOS data converters and mixed-signal products.
机译:本文介绍了一种在铸造CMOS工艺中制造的温度调节带隙基准电压源。使用简单的后处理微加工步骤,将包含参考电路的一小部分芯片与其余硅芯片进行热隔离。该参考具有较高的热阻和较小的热质量,与以前的加热基板电路相比,所需功率降低200倍,预热速度提高160倍。在标准CMOS工艺中,该参考可以与CMOS数据转换器和混合信号产品一起包含在片上。

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