机译:在硅反应器的微通道中沉积Pt催化剂:在高温下工作的气体微型TAS中的应用
Ecole des Mines de Saint Etienne, Centre SPIN, Dpt MICC, LPMG-UMR CNRS 5148, 158 Cours Fauriel, 42023 Saint Etienne, France;
micro-reactor; CO-CO_2 conversion; gas sensors; CH_4/CO selectivity;
机译:通过在室温和大气压下气相沉积氧化铝来增强PEPT应用中碳化硅示踪剂颗粒的活化
机译:低温催化化学气相沉积(<150℃)和激光晶化的非晶硅膜沉积在多晶硅薄膜晶体管中的应用
机译:使用高工作压力等离子体增强的化学气相沉积在室温下沉积氧化硅膜:O-2流速的影响
机译:沉积温度对快速热化学气相沉积法制备的CMOS栅电极非晶和多晶硅晶粒结构和电学性能的影响
机译:低压化学气相沉积反应器中硅的低温原子层外延。
机译:簇状逆流微通道反应器的微混合研究及其在超细二氧化锰沉淀中的应用
机译:聚类逆流微通道反应器的微混凝研究及其在超细锰二氧化碳沉淀中的应用
机译:沉积条件对高温气冷反应堆燃料颗粒热解碳化硅涂层性能的影响