机译:硅键合晶圆中掩埋界面的红外光谱研究
Institut fuer Physik, Halbleiterphysik, Technische Universitaet Chemnitz, D-09107 Chemnitz, Germany;
机译:键合硅晶片的掩埋界面和表面的红外光谱表征
机译:近红外散射形貌和显微镜粘合硅与绝缘体晶片中覆盖氧化物的表征
机译:室温粘合硅在绝缘体晶片上,具有通过退火的沉积硅氧化层和表面活化粘合而形成的致密掩埋氧化物层
机译:近红外散射形貌和显微镜粘合硅与绝缘体晶片中图案氧化物埋藏的针孔的特征
机译:切角对晶片键合串联太阳能电池直接晶片键合的n-砷化镓/ n-砷化镓结构电导率的影响
机译:基于空间域与形态相结合的红外激活等离子体激活Si-Si键合界面的研究
机译:直接硅键合晶圆界面的电均匀性
机译:与粘合晶圆的埋地硅化物互连