机译:反应磁控溅射制备具有宽范围光学特性的ZnO薄膜
Royal Inst Technol KTH, Dept Mat Sci & Engn, Brinellvagen 23, SE-10044 Stockholm, Sweden;
Aix Marseille Univ, CNRS, LP3, Marseille, France;
CUNY, City Coll New York, Dept Chem Engn, New York, NY 10031 USA;
Royal Inst Technol KTH, Dept Mat Sci & Engn, Brinellvagen 23, SE-10044 Stockholm, Sweden;
Aix Marseille Univ, CNRS, LP3, Marseille, France;
Royal Inst Technol KTH, Dept Mat Sci & Engn, Brinellvagen 23, SE-10044 Stockholm, Sweden;
reactive magnetron sputtering; thin films; optical properties; zinc oxide;
机译:使用低能量Ar离子照射调节磁控溅射的Cu-ZnO薄膜的光学和电性能
机译:ZnO薄膜的光学和结构表征以及通过堆叠由电子束蒸发和射频磁控溅射技术制成的ZnO薄层来实现气体传感器的体声波谐振器(BAW)的制造
机译:通过反应磁控共溅射调节室温生长的Al掺杂ZnO薄膜的电学和光学性质:从带隙到近红外
机译:DC反应磁控溅射制备的Zr掺杂ZnO薄膜电气和光学性能研究
机译:使用不平衡磁控溅射制造适用于薄膜晶体管的掺镓ZNO薄膜。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:溶胶-凝胶法和磁控反应溅射制备Eu掺杂ZnO薄膜的结构性能与能量转移的相关性