机译:优化铬干蚀刻工艺
机译:沉积温度和热退火对半导体器件干法刻蚀工艺中a-C:H膜干法刻蚀速率的影响
机译:HgCdTe检测器阵列干法刻蚀工艺条件的优化
机译:HgCdTe检测器阵列干法刻蚀工艺条件的优化
机译:将亚32纳米HSQ / AR3 BLR抗蚀剂柱的优化干显影工艺从低K蚀刻剂转移到金属蚀刻剂
机译:一种新型喷雾干燥工艺,用于稳定巴斯德毕赤酵母中的乙醇酸氧化酶和过氧化氢酶,并使用喷雾干燥的生物催化剂优化乳酸中丙酮酸的生产。
机译:花椰菜干燥的干燥工艺参数优化
机译:(受邀)针对垂直和无损伤的蚀刻后InGaas鳍片轮廓:干蚀刻处理,侧壁损伤评估和缓解选项
机译:通过湿法和干法蚀刻铬掩模进行图案转移制备锂铌酸盐中的光子晶体。