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Low-k Webcast Reveals Roadmaps, Hurdles, Accomplishments

机译:Low-k网络广播揭示了路线图,障碍和成就

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摘要

Semiconductor International's first technology webcast focused on one of the most controversial technologies of our time: low-k dielectrics. Its speakers, Katie Yu of Motorola, Wilbur Catabay of LSI Logic and Reinhold Dauskardt of Stanford University, described the pains and gains of bringing low-k dielectrics into production environments, combining low-k with copper, and the challenges encountered with first- and second-generation low-k dielectric solutions.
机译:半导体国际公司的第一个技术网络广播聚焦于我们时代最有争议的技术之一:低k电介质。演讲嘉宾是摩托罗拉的Katie Yu,LSI Logic的Wilbur Catabay和斯坦福大学的Reinhold Dauskardt,他们介绍了将低k电介质引入生产环境,将低k与铜结合起来的痛苦和收获,以及首次和首次挑战所遇到的挑战。第二代低k介电解决方案。

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