...
首页> 外文期刊>半導体産業新聞 >元素戦略シンポジウム セリウム関連に成果 使用量低減や代替技術で
【24h】

元素戦略シンポジウム セリウム関連に成果 使用量低減や代替技術で

机译:元素策略研讨会铈的相关结果减少使用量和替代技术

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

内閣府、文部科学省、経済業産省、科学技術振興機構、新エネルギー•産業技術総合開発機構が共催する「元素戦略/希少金属代替材料開発」の第7回合同シンポジウムが3月29日、一橋大学の一橋講堂で開催された。物質•材料研究機構顧問の岸輝雄議長は、開会にあたり「日本のあり得ベき成長戦略も視野に入れ、素材立国ニッポンとして将来の研究開発の方向性を議論し、今後の府省連携が取り組むベき課題や新たな枠組みのあり方について展望を得る機会になることを期待する」と述ベた。「代替砥粒及び革新的研磨技術を活用した精密研磨向けセリウム低減技術の開発」では、(財)ファインセラミックスセンターの須田聖一氏らが、セリウム使用量の低減に向けて、セリア砥粒の使用量を低減させる革新的研磨技術の実現と、セリウムフリー/セリウム使用量が少ない砥粒開発の両面から検討を行っている。使用量の低減では、研磨過程でスラリーに交流電流を印加することで砥粒の動きを制御する電界砥粒制御技術を開発。低スラリー濃度条件でも高い研磨効率が得られるとした。
机译:由内阁府,教育,文化,体育,科学和技术部,经济产业省,日本科学技术厅以及新能源与工业技术发展组织联合主办的第七届“元素战略/稀有金属替代材料开发”联合研讨会将于3月29日举行。它在一桥大学一桥礼堂举行。国立材料科学研究所顾问会长Teruo Kishi在开幕式上说:“我们将考虑日本可能采取的未来增长战略,讨论以材料为导向的日本未来的研发方向,并参与各部委之间的合作。我们期待着有机会就应该应对的挑战和新框架发表看法。”在“利用替代磨料进行精细抛光的铈还原技术的发展和创新抛光技术”中,精细陶瓷中心(日本)的Seiichi Suda等人致力于减少铈的使用量。从实现减少使用量的创新抛光技术的观点以及无铈/含铈磨粒的发展两方面进行研究。为了减少使用量,我们开发了一种电场磨粒控制技术,该技术通过在抛光过程中向浆料施加交流电来控制磨粒的运动。据说即使在低浆料浓度条件下也可以获得高抛光效率。

著录项

  • 来源
    《半導体産業新聞》 |2013年第17期|7-7|共1页
  • 作者

  • 作者单位
  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号