ニコン、液浸を15年に出荷 装置業界が対応本格化へ 脚光浴びた450mm化: SEMIフォーラムより

摘要

半導体製造装置市場の今後を占ううえで見逃せないのが、450mmウエハーをめぐる動きだ。すでに具体的な製品が登場しているウエハー用キャリアやロードポートなど搬送系装置・部材に加え、製造装置業界もようやく本格的な開発に踏み出し、開発ロードマップを公開し始めた。12月4日～6日に幕張メッセで開催された「セミコン・ジャパン2013」の目玉企画として5日に開催された「450mmエグゼクティブフォーラム」で、ニコンと東京エレクトロンが開発スケジュールや開発方針を相次いで発表し、注目を集めた。ニコンは、最初の450mm応機として、ArF液浸露光機の開発を進めている。2016年には米国のコンソーシアム、グローバル450mmイニチアシブ(G450C)の450mm研究拠点、米アルバニーに出荷する計画だ。東京エレクトロンは、オープンプラットフォームで450mm対応装置の開発を進めており、デバイスメーカーの要望に応じてリリースする準備を進めるほか、450mm装置の開発成果を300mm装置にも展開していく。