川商エレ，表面汚染粒子測定器を販売製造装置のメンテナンス時間を短縮スループット向上にも貢献

摘要

半導体製造プロセスにおいて歩留りを向上させるた めには，発塵をコントロールして上手く処理してい く事が肝要となる。例えば，稼働中の真空プロセス 装置を使用している間の発塵粒子の増減を常時モニ タリングし，粒子が突発的に異常発塵したタイミン グを捕えて対策をとることにより，生産品への影響 を最小限にとどめることが可能である。そして，定 期的な真空プロセス装置のメンテナンスも必要であ る。