ウシオ電機，エキシマ光を用いた精密ドライ洗浄技術高速・高精度かつダメージフリーでの洗浄を実現FPDから半導体まで，さらに新たな分野へも用途が拡大

摘要

短波長紫外線は高いフォトンエネルギーを持つことrnから，現在では，Xeエキシマ光（波長172nm）はrn精密ドライ洗浄，表面改質のツールとして，FPD製rn造のみならず半導体製造など様々な分野で利用されrnるようになってきた。Xeエキシマ光を用いた精密rnドライ洗浄は，処理薬液の低減，装置の簡素化，低rnコスト化を可能にする。一方で，デバイスの微細化，rn高性能化をもたらすものとして期待が高まっている。