Cadenceが提供する最先端詏計ソリューションリソグラフイ·ソリューションで歩留り向上へrnダブルパターニングのレイアウトにも対応rn

摘要

45nm以降のデバイス設計では，DFM技術が必須rnとなってくる。65nmまでのDFM技術は，設計完rn了後のサインオフ検証が主なものであったが，今後rnは製造で発生する事象を考慮し，設計者があらかじrnめ設計の段階で，最適化を行う必要が出てくる。