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【24h】

イオンミリング装置 断面•平面対応のハイブリッド型

机译:离子铣削设备混合型,用于横截面和平面

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摘要

1. 日立イオンミリング装置「IM4000」(同)=写真試料ホルダを交換することにより、試料上部に配置された遮蔽板端面に沿って平坦な断面を作製する「断面イオンミリング」と、試料表面にアルゴンイオンビームを照射して直径約5mmの広範囲を均一にスパッタリングして機械研磨や切削では取り除けない細かな傷や歪みを除去する「平面イオンミリング」の2つの機能を装備したハイブリッドタイプのイオンミリング装置である。
机译:1. Hitachi离子铣削设备“ IM4000”(相同)=“横截面离子铣削”,通过更换样品架和放置在样品上的屏蔽板的端面,可以形成一个平面横截面混合型离子铣削具备``平面离子铣削''的两种功能,通过照射氩离子束并均匀溅射直径约5 mm的宽区域,消除了无法通过机械抛光和切割去除的细微划痕和应变它是一个设备。

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  • 来源
    《科学新聞 》 |2013年第17期| 5-5| 共1页
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