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【24h】

半導体洗浄装置 投資回複も13年はマイナス 着実に進む450mm技術開発

机译:半导体清洗设备投资回收连续十三年为负450mm技术发展稳步推进

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摘要

2012年の洗浄装置市場(スクラバー含まず)は、ファンドリーやMPUメーカーなどで設備投資が抑制基調で推移するなか、前年比3.3%増の1900億円と前年に引き続きプラス成長を記録した。その牽引役となったのが枚葉式洗淨装置で、その構成比率は約8割以上に達している。しかし、NANDフラッシュの一部剥離工程などでバッチ式の需要があり、今後1~2年はその比率に大きな変化はないものと思われる。
机译:2012年,清洁设备市场(不包括洗涤塔)实现了正增长,同比增长3.3%,达到1,900亿日元,而铸造厂和MPU制造商的资本投资仍处于受控状态。其背后的驱动力是单晶圆洗衣机,占总数的80%以上。但是,对于一部分NAND闪存剥离过程,存在批处理类型的需求,而且在接下来的1-2年中,该比率似乎不会有明显变化。

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  • 来源
    《科学新聞》 |2013年第15期|10-10|共1页
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