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日本IBMとパナソニック

机译:IBM日本和松下

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摘要

日本IBMとパナソニックスマ一トファクトリ一ソリユーシヨンズは、半導体製造工程のOEE (Overall Equipment Effectiveness.総合設備効率).最大化と、高品質なモノづくりを実現するため、新規商品開発で協業することに合意した。現在、パ社では回路形成プロセス事業の中で、半導体製造工程向けにドライエツチング装置、プラズマを用いて高品質なウェハーを切り出すプラズマダイサー、金属接合性や樹脂密着性を高めるプラズマクリーナー、高精度ボンディング装置などのエッジデバイス、新工法を開発販売している。
机译:IBM日本公司和松下智能工厂解决方案公司将合作开发新产品,以最大程度地提高半导体制造工艺的OEE(总体设备效率)并实现高质量的制造。同意。当前,在公司的电路形成工艺业务中,PA公司使用干法蚀刻设备进行半导体制造工艺,使用等离子切割机切割高质量晶片的等离子切割机,增强金属结合和树脂附着力的等离子清洁器以及高精度结合。我们正在开发和销售边缘设备,例如设备和新的构造方法。

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  • 来源
    《科学新聞》 |2019年第3750期|4-4|共1页
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  • 正文语种 eng
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