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「三十云(うん)年(ねん)前の厚付け無電解銅あっき体驗記①」

机译:“ 30年前厚薄的化学镀铜主体”

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摘要

2年前にC-NETの和嶋理事長が「フルアディティブプリント配線板(AP-Ⅱ法)の開発」というコラムをこの欄に載せられました。(本誌2017-8-5号「フルアディティブプリント鵬板(Ap-Ⅱ法)の開発」)私は、30云(うん)年(ねん)前に和嶋様をはじめとする、当時日立製作所日立研究所におられた方々からフルアディティブ法を教示して頂きました。フルアディティブ法はいろいろな材料やプロセス技術の集大成ですが、特に、銅の回路、スルーホールを形成するための厚付け無電解銅めっき擁が注目されました。
机译:两年前,C-NET总裁Wajima在此专栏中添加了一个名为“开发全添加剂印刷线路板(AP-II方法)”的专栏。 (本杂志的2017年8月5日,“完全添加剂印刷Phobo的开发(Ap-II方法)”)我30岁,包括Wajima先生和当时的Hitachi研究人员。那里的人教我完整的加法方法。完全添加法是各种材料和工艺技术的结晶,但是特别是用于形成铜电路和通孔的厚化学镀铜支架引起了人们的关注。

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