酸化物とシリコンの直接微細インプリント

摘要

ナノインプリント法は，サブナノオーダのパターンの形成も可能である魅力的な加工法である。比較的簡単な装置で微細加工ができるので，現在ではそのメリットを活かして種々の微細加工に適用されている。ナノインプリント法の現在の主流は，NIL(Nano-imprint lithography)である。この方法は，ナノインプリント法によってレジストのパターニングを行い，それをエッチングマスクとして用いて目的の材料を加工する手法である。これに対して，直接的に目的の材料を加工する直接インプリントと呼ばれる手法がある。直接インプリント法は，印刷法の概念に近い手法である。本稿では，酸化物とシリコンの微細パターンの直接インプリント法による形成を紹介する。