机译:高功率脉冲磁控溅射/不平衡磁控溅射技术沉积纳米多层CrAlYN / CrN涂层的氧化行为
Nanotechnology Centre for PVD Research Materials and Engineering Research Institute Sheffield Hallam University Howard St. Sheffield S1 1WB UK;
Nanotechnology Centre for PVD Research Materials and Engineering Research Institute Sheffield Hallam University Howard St. Sheffield S1 1WB UK;
Nanotechnology Centre for PVD Research Materials and Engineering Research Institute Sheffield Hallam University Howard St. Sheffield S1 1WB UK;
films; heat-treatment; nanolayers; plasma etching; transmission electron microscopy;
机译:结合高功率脉冲磁控溅射/不平衡磁控溅射技术生产的新型CrAlYN / CrN纳米多层PVD涂层,用于γ-TiAl合金的环境保护
机译:高功率脉冲磁控溅射/不平衡磁控溅射技术沉积的CrAlYN / CrN超晶格涂层
机译:结合高功率脉冲磁控溅射/不平衡磁控溅射(HIPIMS / UBM)技术沉积的CrAlYCN / CrCN纳米多层PVD涂层
机译:高功率脉冲磁控溅射蚀刻不平衡磁控溅射沉积(HIPIMS / UBM)工艺沉积的工业化生产耐腐蚀CrN / NbN涂层
机译:通过磁控溅射合成的二硼化钛/碳化钛和氧化钛/氧化铝多层涂层的结构,机械,摩擦学性能和高温稳定性。
机译:通过动态透明角度直流磁控溅射制造的富含氮的CR1-XALXN多层涂层
机译:高功率脉冲磁控溅射和不平衡磁控溅射技术相结合产生的多层氮化铬/氮化铌涂层的缺陷生长