机译:氦离子辐照等离子体沉积聚硅氧烷薄膜的XPS研究
Instituto de Fisica Gleb Wataghin, Universidade Estadual de Campinas, 13083-970, Campinas, SP, Brazil;
机译:各种等离子体沉积的聚合物薄膜经170 keV He〜+离子辐照的红外光谱研究
机译:研究表面化学与内皮细胞生长之间的关系-含氧等离子体沉积薄膜的静态二次离子质谱的部分最小二乘回归
机译:研究表面化学与内皮细胞生长之间的关系-含氧等离子体沉积薄膜的静态二次离子质谱的部分最小二乘回归
机译:离子辐射对聚硅氧烷薄膜光致发光的影响
机译:脉冲激光辐照诱发的钼,镍和铋单晶表面缺陷结构的研究:LEED和单正氦离子通道(热应力,滑动,位移)表征。
机译:20keV氦离子辐照过程中金-硅核壳纳米粒子的结构和化学演化:实验与模拟的比较
机译:在携带光偶联机组的膜照射表面的聚硅氧烷形成期间变化。
机译:探讨二氧化硅/聚硅氧烷界面:Y辐照复合材料的固态核磁共振研究。