机译:用反应磁控溅射沉积法在材料体系V–Al–N中沉积和表征硬涂层
TZO-Technologiezentrum fÜr Oberflchentechnik Rheinbreitbach GmbH Maarweg 30 53619 Rheinbreitbach Germany;
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Forschungszentrum Karlsruhe Institut fÜr Materialforschung I Hermann-von-Helmholtz-Platz 1 76344 Eggenstein-Leopoldshafen Germany;
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AlN; bias variation; hard coatings; magnetron sputtering; pressure variation; VAlN; VN;
机译:反应性直流不平衡磁控溅射制备TiAlN / Si3N4超硬纳米复合涂层的沉积与表征
机译:反应磁控溅射沉积α-Al2O3硬质涂层
机译:脉冲大电流反应磁控溅射沉积超硬Ti-Si-N涂层
机译:Tialon和Timoalon太阳能吸收器涂层的沉积和表征用于PEM控制的双气反应磁控溅射制备的高温光热应用
机译:反应磁控溅射沉积的优化,以及氢在氢化非晶硅基材料中的扩散研究。
机译:磁控溅射与硬滤膜硬滤膜:环境与经济表演的比较
机译:反应性磁控溅射沉积的硬度和坚韧锡/ Ni纳米复合涂层的高通量优化