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机译:低角度晶界对外延生长的YBa_2Cu_3O_(7-δ)薄膜中的临界电流密度的主导作用的实验证据
Max-Planck-Institut fuer Metallforschung, Heisenbergstrasse 3, D-70569 Stuttgart, Germany;
critical currents; Y-based cuprates; high-Tc films; vortex lattices; flux pinning; flux creep;
机译:磁法研究YBa_2Cu_3O_(7-δ)薄膜中低角度晶界的自组织电流传输
机译:YBa_2Cu_3O_(7-δ)薄膜中单一晶界和人工钉扎中心对临界电流密度的联合影响
机译:YBa_2Cu_3O_(7-x)薄膜低角度晶界处旋涡结构和临界电流密度的倾斜角依赖性
机译:磁场依赖于脱位低角度域边界薄外延HTS yba_2cu_3O_(7-δ)膜中的临界电流密度
机译:了解为什么谷物边界限制了Fe基超导体的临界电流密度,并探讨了提高电流密度的方法
机译:金属衬底上的P掺杂BaFe2As2薄膜中由于晶界排列不齐而导致的临界电流增强
机译:临界电流密度和交流谐波电压的产生 $ YBa_2Cu_3O_ {7- \ delta} $薄片通过筛选技术