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Point defects in pure amorphous silicon and their role in structural relaxation: A tight-binding molecular-dynamics study

机译:纯非晶硅中的点缺陷及其在结构弛豫中的作用:紧密结合的分子动力学研究

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摘要

Structural relaxation in pure amorphous silicon (α-Si) produced by ion implantation has been attributed to the annihilation of point defects (vacancies and interstitials) introduced during the amorphization process. We have studied this problem by using t
机译:通过离子注入产生的纯非晶硅(α-Si)中的结构弛豫已归因于在非晶化过程中引入的点缺陷(空位和间隙)的an灭。我们通过使用t研究了这个问题

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