首页> 外文期刊>Physical review >Atomic structures and energetics of 90° dislocation cores in Ge films on Si(001)
【24h】

Atomic structures and energetics of 90° dislocation cores in Ge films on Si(001)

机译:Si(001)上Ge膜中90°位错核的原子结构和高能学

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
获取外文期刊封面目录资料

摘要

We report on atomic structures and energetics of 90° dislocation cores in Ge films on Si(001) substrates on the basis of the first-principles total-energy calculations. The dislocation core structure consisting of a row of pairs of five- and seven-membered Ge rings is proposed and found to be stable with increasing Ge overlayers. The scanning tunneling microscopy images of the 90° dislocation core structure are calculated and show the possibility to observe the proposed core structure.
机译:我们在第一原理总能量计算的基础上报告了Si(001)衬底上Ge膜中90°位错核的原子结构和高能学。提出了由成对的五元和七元Ge环对组成的位错核心结构,并发现随着Ge覆盖层的增加,位错核心结构是稳定的。计算了90°位错核心结构的扫描隧道显微镜图像,显示了观察提出的核心结构的可能性。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号