机译:Si(001)上Ge膜中90°位错核的原子结构和高能学
Department of Physics, Tokyo Institute of Technology, Oh-okayama, Meguro, Tokyo 152-8551, Japan CREST, Japan Science and Technology Agency, Sanban-cho, Tokyo 102-0075, Japan;
rnDepartment of Applied Physics, University of Tokyo, Hongo, Tokyo 113-8656, Japan CREST, Japan Science and Technology Agency, Sanban-cho, Tokyo 102-0075, Japan;
electron states at surfaces and interfaces; density functional theory, local density approximation, gradient and other corrections; electronic structure of liquid metals and semiconductors andrntheir alloys;
机译:铝中螺旋位错核心能量学和位错集合体中核心能量知情力的电子结构研究
机译:(001)的Si衬底取向不良导致Ge_xSi_(1-x)/ Si(x〜0.4-0.5)薄膜中60°和90°失配位错的形成和传播特征
机译:Ge / Si(001)异质界面处不对称Lomer位错核的原子尺度成像
机译:Si(001)GE膜中90度脱位核的形成与稳定性
机译:Si(111)和MgO(001)表面上超薄铁膜的原子和电子结构
机译:Si(001)上GeSi覆盖层中位错释放晶格应变的原子尺度形成机理
机译:螺旋位错核能量学的电子结构研究 铝和核心能量学在一个错位聚合体中引发了力量