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机译:金属/ Al_2O_3 / GaAs(100)金属氧化物半导体结构中表面电势的硬X射线光电子能谱和电特性研究
Department of Physical Sciences, Dublin City University, Glasnevin, Dublin 9, Ireland;
Department of Physical Sciences, Dublin City University, Glasnevin, Dublin 9, Ireland;
Tyndall National Institute, University College Cork, Lee Maltings, Cork, Ireland;
Tyndall National Institute, University College Cork, Lee Maltings, Cork, Ireland;
US Army Research Laboratory, Adelphi, Maryland 20783, USA;
National Institute of Standards and Technology, Gaithersburg, Maryland 20899, USA;
National Institute of Standards and Technology, Gaithersburg, Maryland 20899, USA;
机译:金属/ SiO2 / Si(100)金属氧化物半导体结构的组合硬X射线光电子能谱和电特性研究
机译:金属/ SiO_2 / Si(100)金属氧化物半导体结构的组合硬X射线光电子能谱和电特性研究
机译:HFO_2 / 1-单层TiO_2 / SiO_2金属氧化物半导体堆中电诱导变化:电容 - 电压和硬X射线光电子能谱研究
机译:从GaAs(001)(2x6)(2x6)-s -s-s的表面转变为(2x3)的表面,通过同步辐射光电子光谱,近边缘结构附近的X射线吸收和X射线驻波
机译:X射线光电子能谱和动力学研究:铂族金属和双金属表面。
机译:TiO2(Ti)/ SiO2 / Si叠层内部结构的软X射线反射法硬X射线光电子能谱和透射电子显微镜研究
机译:金属/ SiO2 / Si(100)金属氧化物半导体结构的组合硬X射线光电子能谱和电特性研究