机译:4H-SiC中电子和空穴的碰撞电离系数的测量及其在器件仿真中的应用
Corporate R&D Center, Toshiba Corporation, 1, Komukai Toshiba-cho, Saiwai word, Kawasaki 212-8582, Japan;
charge carriers: generation, recombination, lifetime, and trapping; power electronics; power supply circuits; junction diodes; junction breakdown and tunneling devices (including resonance tunneling devices);
机译:4H-SiC中电子和空穴的碰撞电离系数的测量
机译:4H-SiC对超高压功率器件的冲击电离系数
机译:测定4H-SiC中雪崩二极管的OBIC以测定碰撞电离系数
机译:4H-SIC中电子和孔的冲击电离系数
机译:仿真的应用预测未来电子设备组装厂的运营性能测量。
机译:比较两个相关主题内的变异系数以评估测量设备的可重复性
机译:关于电子和空穴的测量影响电离系数 在4H-siC中
机译:Gaas / al(0.45)Ga(0.55)as / al(0.3)Ga(0.7)作为耦合阱系统的电子和空穴碰撞电离系数