机译:系统光谱法研究富In In_xGa_(1-x)N层的合金成分涨落和能带结构
Department of Electronics and Mechanical Engineering, Chiba University, 1-33 Yayoicho Inage-ku, Chiba 263-8522, Japan;
semiconductor compounds; Ⅲ-Ⅴ and Ⅱ-Ⅵ semiconductors; Ⅲ-Ⅴ semiconductors;
机译:用硬X射线光发射和光热偏转光谱法检测的GaN块和In_xGa_(1-x)N薄膜的价带边缘尾态和带隙缺陷水平
机译:用于富含IN_XGA_(1-X)的光学和结构性,如(100)INP用于SWIR探测器的外延层
机译:低压金属有机气相外延生长富In_xGa_(1-x)As / GaAs层中的铟掺入及其对自组装量子点生长的影响
机译:通过低能量的光离子照射调谐含量富含含量的in_xga_(1-x)n(x = 0.82-0.49)合金的光学性质
机译:晶格参数的调查。某些钛合金的电阻率和磁化率:电子能带结构的建议。
机译:尺寸受限的固定成分和依赖成分的工程带隙合金化在L-半胱氨酸封端的四元CdZnTeS量子点中诱导了不同的内部结构
机译:In_xGa_(1-x)as半导体合金的局域结构研究 能量同步加速器X射线衍射
机译:组成分级INas / sub X / sb / sub 1-X /缓冲层的结构研究