深紫外光レーザーを用いた次世代マスク欠陥検査装置

摘要

次世代半導体検査に適用可能なマスクパターン欠陥検査装置を開発した。今回開発に成功したNPI-8000は，最先端マスク検査を高感度，高速で処理可能である一方，将来量産が期待されるEUVマスクに対応した検査機能も搭載している。また，NIL用テンプレートの欠陥判別を行う光学系も搭載することが可能である。