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机译:高温退火对溅射的HfO_2和HfO_2-SiO_2混合紫外反射镜的光谱,显微结构和抗激光损伤性能的影响
Ctr Phys Sci & Technol Opt Coatings Lab Savanoriu Ave 231 LT-02300 Vilnius Lithuania;
UV mirrors; High power coatings; HfO2 mixtures; Thermal annealing; Crystallization;
机译:退火温度对溅射生长的高k HfO_2栅极电介质的结构和光学性能的影响
机译:射频磁控溅射法研究衬底温度和退火温度对Pt薄膜结构,电学和微结构性能的影响
机译:高温退火后具有高激光诱导损伤阈值的溶胶 - 凝胶HFO_2薄膜的一种创新方法
机译:TiO_2 / SiO_2多层高反射镜中光学,微观结构和激光损伤性能的影响
机译:用于高能激光器的离子束溅射沉积干涉涂层的抗光学损伤性能的进步。
机译:退火温度和氧气流量对离子束溅射SnO2-x薄膜性能的影响
机译:在不同沉积温度下RF-磁控溅射制备的ZnO纳米结构的结构,光学和UV光响应性的退火效应
机译:基板温度,偏压,退火和Cr sub 3 si sub 2底涂层对射频溅射mos sub 2涂层摩擦学性能的综合影响的统计研究