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机译:通过电子束沉积在石英衬底上生长的纳米Y2O3纳米晶薄膜的光学性质
Wroclaw Univ Technol Fac Fundamental Problems Technol Wybrzeze Wyspianskiego 27 PL-50370 Wroclaw Poland;
Wroclaw Univ Technol Fac Microsyst Elect & Photon Janiszewskiego 11-17 PL-50372 Wroclaw Poland;
Yttrium oxide; Thin films; Optical properties; Refractive index; XRD; Surface morphology;
机译:通过电子束沉积在石英衬底上生长的纳米Y2O3纳米晶薄膜的光学性质
机译:结构,光学,非线性光学,电介质特性和LA_(0.01)BA_(0.99)TiO_3,SM_(0.5)SR_(0.5)COO_3和SM_(0.5)SR_(0.01)BA_(0.01)BA_的电子结果 (0.99)使用脉冲激光沉积(PLD)技术在石英基板上生长的TiO_3薄膜
机译:沉积温度对在硅基板上生长的SnS薄膜性能的影响-与在玻璃基板上生长的膜的结构和光学性质的比较研究
机译:沉积时间对化学浴沉积生长纳米晶CEO_2 / CDS薄膜形态和光学性质的影响
机译:通过有机分子束沉积生长的结晶有机薄膜的结构和光学性质。
机译:衬底温度和氧分压对脉冲激光沉积生长纳米晶铜氧化物薄膜性能的影响
机译:衬底温度对电子束蒸发沉积纳米CdTe薄膜的结构和光学性能的影响
机译:衬底温度和氢稀释比对热线化学气相沉积法生长纳米硅薄膜性能的影响