液浸露光装置S620D: ダブルパターニング世代の新プラットホーム：Streamlign

摘要

l．はじめに世代を経るごとに厳しくなる半導体デバイスの高集積化要求に対し，これまで半導体露光装置は，光源の短波長化，液浸露光1）の導入などの解像度向上技術で応えてきた。45nmハーフピッチ世代の量産技術として，波長193nmのArF光を用いた液浸露光が確立されつつある昨今，さらなる微細化を可能にする「次世代のリソグラフィー技術・半導体露光装置」の開発への注目が高まってきている。32nmハーフピッチ世代以降の量産技術の有力な選択肢としては，スぺ－サー・ダブルパターニング（SDP）および，ピッチ・スプリッティング・ダブルパターニング（PSDP）が提唱されている2）。