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机译:通过氮气辐照分离InP的植入物:剂量,初始载流子浓度和植入温度的影响
Advanced Technology Institute, School of Electronics and Physical Sciences, University of Surrey, Guildford, GU2 7XH, UK;
doping and impurity implantation in Ⅲ-Ⅴ and Ⅱ-Ⅵsemiconductors; Ⅲ-Ⅴ semiconductors;
机译:使用MeV铁注入在不同剂量和衬底温度下对n型InP进行电隔离
机译:硼在低温下具有植入剂量低于非晶化阈值的初始活化行为
机译:载体捕获由氮气植入损坏的β-GA_2O_3肖特基阻隔二极管的动力学,深层和隔离性能
机译:通过在不同剂量和底物温度下进行质子辐照来分离InP和InGaAs的植入物
机译:离子注入用于抑制点腐蚀的应用:铝的钨束注入和304L不锈钢的氮等离子体离子注入。
机译:低剂量的连续波微波辐照不会引起与钛合金植入物相邻的肌肉组织温度升高–一项动物研究
机译:铁辐射对n型InP和InGaAs的植入物隔离:植入后退火温度的影响