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机译:微波诱导化学蚀刻(MCE):一种用于固体聚合物轨迹检测器(SPTD)的快速蚀刻技术
Health Physics Division, Bhabha Atomic Research Centre, Mumbai-400085, India;
rnRadiation Safety Systems Division, Bhabha Atomic Research Centre, Mumbai-400085, India;
rnHealth Physics Division, Bhabha Atomic Research Centre, Mumbai-400085, India;
rnHealth Physics Division, Bhabha Atomic Research Centre, Mumbai-400085, India;
rnDepartment of Science and Technology, Government of India, Technology Bhawan, New Delhi-110016, India;
rnRadiation Safety Systems Division, Bhabha Atomic Research Centre, Mumbai-400085, India;
chemical etching; electro-chemical etching; ultrasonic etching; plasma etching; microwave induced chemical etching; solid polymeric track detectors (SPTD);
机译:优化微波诱导化学蚀刻,以快速发展CR-39探测器中的中子引起的后坐力轨迹
机译:固体核径迹检测仪的蚀刻技术用于重离子微束诊断
机译:LR-115Ⅱ型固态核磁探测器的表面化学腐蚀行为
机译:使用反应离子束刻蚀和化学辅助反应离子束刻蚀对GaN进行干法刻蚀
机译:具有理想氢终止作用的化学蚀刻新表面清洁技术:silcon(111)和硅(100)表面的表面化学和形态。
机译:球面光刻技术结合金属辅助化学刻蚀和各向异性化学刻蚀在Si(111)衬底上制造的三角形孔阵列
机译:蚀刻时间对固态核径迹探测器中α轨道的影响
机译:用于快中子粒子学的聚合物中低热回收颗粒痕迹的电化学蚀刻放大